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电感合等离子体反应离子刻蚀
设备型号：
厂 家：
所属地区：
北京
所属机构：
单 位：
米格实验室
联 系 人：
闫经理
联系电话：
18518552906
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技术参数：
刻蚀精度：100nm刻蚀均匀性：＜5%主要刻蚀材料：GaAs、AlGaAs、SiO2、SiN反应气体有哪些N2、Ar、CF4
功能特色：
样品要求：
样品尺寸：最大8英寸
应用领域：
服务范围：
收费标准：
面议
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