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反应离子刻蚀 RIE Samcon
设备型号：
RIE-10NR
厂 家：
Samcon
所属地区：
浙江
所属机构：
单 位：
米格实验室
联 系 人：
闫经理
联系电话：
18518552906
联系地址：
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规格参数
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技术参数：
反应室容量：最大 8 寸；射频功率：最大 300W, 反射功率小于 5W;RF 放电压力：4~50Pa；刻蚀速度：>50nm/min；刻蚀均匀性 : ±5%
功能特色：
反应离子刻蚀 RIE
样品要求：
应用领域：
成分分析
服务范围：
收费标准：
面议
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