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全自动双面光刻机 光刻机 DNK
设备型号:DNK MA-4200
厂       家:DNK
所属地区:北京
  • 技术参数:

    对4英寸及以下尺寸Wafer,进行1μm精度的光刻,可根据客户需要实现精确控制

    功能特色:

    对4英寸及以下尺寸Wafer,进行1μm精度的光刻,可根据客户需要实现精确控制

    样品要求:

    提前通知

    应用领域:

    微纳加工

    服务范围:

    收费标准:

    面议

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