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深反应等离子体刻蚀系统
设备型号：SPTS Omega LPX Rapier
厂       家：
所属地区：浙江
  • 技术参数：

    1 双等离子体源设计2 偏置电源脉冲功能3 厚介质涂层静电卡盘4 冷却方式：背氦+水冷5 配备8路工艺气体6 最大样品尺寸6英寸

    功能特色：

    刻蚀各类硅基材料，尤其适用于高深宽比的刻蚀工艺

    样品要求：

    应用领域：

    服务范围：

    收费标准：

    面议

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