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光刻机
设备型号:SUSS MA/BA6
厂       家:
所属地区:北京
  • 技术参数:

    样品尺寸:2”,3”,4”,6”及不规则小片最大光强:35mw/cm²@365nm,55mw/cm²@405nm曝光方式:真空,硬接触,软接触,临近最小线宽:0.8μm(真空接触);2.5μm(软接触)均匀性:2% over 6”diameter对准精度:0.5μm@TSA;1μm@BSA

    功能特色:

    以汞灯为紫外光源,配合复杂的光路系统,实现均匀、高能量和准直的单色光束,对光刻胶进行曝光。同时系统配有对准显微装置(正面和背面)。

    样品要求:

    2”,3”,4”,6”及不规则小片

    应用领域:

    服务范围:

    收费标准:

    面议

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migelab@labideas.cn
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