本设备是SUSS公司先进半自动化光刻系统，以LED灯为紫外光源配合新的平台系统，通过均匀、高能量和准直的光束对光刻胶进行曝光。平台采用高端数码显微镜和摄像系统，可对掩模板和品圆进行高精度对准(正面和背面)，获得高质量的曝光结果。该设备工艺稳定、精度高、配置先进，可进行高精度高效率的紫外曝光。● 晶圆尺寸：8英寸/6英寸● 最大光强：78mW（@365nm）,138mW（@405nm）● 最小线宽：1μm● 对准精度：0.25μm● 光强均匀性：2.5%

1、单/双面对准；2.紫外光刻

1.有对准需求的样片，只能完成8寸/6寸的光刻；2.无对准需求的样片，可贴到陪片上进行光刻，但掩膜版需用7寸或者9寸版

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