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电子束曝光 EBL

周 期
7-14个工作日
设 备
Raith voyager
测试价格
2600/小时

服务描述


曝光面积:可协商

最小线宽:15-20nm

光刻胶种类:PMMA&HSQ

刻蚀工艺:可协商

样品尺寸:2寸之内

项目介绍

电子束曝光技术在MEMS、光电、光通讯、微波/功率器件、微纳加工、新材料研究等领域具有广泛应用

样品要求

2寸以内

结果展示

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