光刻版/金属掩模版设计与加工

接触式光刻版 ：一般使用苏打玻璃或者石英，常见2寸到9寸，线宽一般在850nm以上，主要用户接触式曝光机，转移图形与版图尺寸为1:1，实现同比例的图形转移。

Stepper版：一般使用石英版，常见为5寸和6寸版，线宽一般在1um以上，主要用于Stepper曝光机台，转移图形与版图尺寸实际比例一般是5:1，实现将版图图形缩小5倍之后投射于目的片上。

纳米压印版：一般用石英版，刻蚀其表面的金属形成沟槽和透光不透光的组合，尺寸一般需要5寸及以上，采用电子束直写的技术实现表面nm图形的转移，一般线宽在200~800nm左右，借助掩模版对光刻胶的压力、同时辅助紫外曝光，最终实现纳米级图形的转移。

金属掩模版：一把采用不锈钢，在不锈钢表面（厚度可选）通过激光加工的方式，实现表面镂空的图形设计，最小线宽20um以上，能够用于电子束蒸发中，用于电极图形的转移。

光刻板是微纳加工技术常用的光刻工艺所使用的图形母版。由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜图形结构，再通过曝光过程将图形信息转移到产品基片上。

光刻板应用十分广泛，在涉及光刻工艺的领域都需要使用掩膜版，如集成电路、平板显示器、印刷电路板、MEMS微机电系统等。

制版流程

光刻板由玻璃/石英基片、铬层构成。图形结构可通过制版工艺加工获得，常用加工设备为直写式光刻设备，如激光直写光刻机、电子束光刻机等。

提供常规掩模与高阶掩模设计及加工制造服务，其中常规掩模尺寸为2”、2.5”、3”、4”、5”、6”、7”、9”等，制备的最小CD线宽为850nm，常规精度误差是±0.25um，还可供选择±0.1um、±0.07um、±0.05um

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