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等离子体增强原子层ALD薄膜沉积系统/原子层沉积
实验须知
实验提交后提交内容仅作为平台实验评估使用，不代表一定进行实验。
样品要求：
1. 样品直径小于160mm（6寸）的各种基片；
2. 气体：Ar、O2、N2、H2；
3. 基片温度范围：室温至200 ℃；
4. 六英寸范围内非均匀性1%以内；
5. 基片可实现80℃的低温沉积可实现水解以及等离子体介质层制备
6. 需要提供要镀的金属材料以及镀膜厚度，还有镀膜时需要的气氛。还有基片大小，材料等。
联系人
田老师： 13552409586