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等离子体增强原子层ALD薄膜沉积系统/原子层沉积
实验须知
实验提交后提交内容仅作为平台实验评估使用,不代表一定进行实验。

样品要求:

1. 样品直径小于160mm6的各种基片;

2. 气体:ArO2N2H2

3. 基片温度范围:室温至200 ℃;

4. 六英寸范围内非均匀性1%以内;

5. 基片可实现80℃的低温沉积可实现水解以及等离子体介质层制备

6需要提供要镀的金属材料以及镀膜厚度,还有镀膜时需要的气氛。还有基片大小,材料等。



联系人
田老师: 13552409586
  • Q
    是否需要回收样品
  • 样品 1
    样品名称
  • 1.1
    样品形态
    * 块体,薄膜
  • 1.2
    样品成分
    * 请填写测试样品主要成分
  • 1.3
    样品尺寸
    *
  • 1.4
    镀膜材质
    * Al2O3,HfO2,TaO2,其他
  • 1.5
    镀膜温度
    * 请填写测试样品镀膜温度
  • 1.6
    镀膜厚度
    * 请填写测试样品镀膜厚度
  • 1.7
    其他要求
点击添加一组样品
(当您的样品测试要求或测试需求不一样,您可以再增加一组样品)
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实验方式
合计费用约
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