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磁控溅射
实验须知

样品要求:

1. 主要用于TiAlNiAuAgCrPtCuTiW90PdPtZnMoWTaRuSiSiCNiCr20Nb20余种金属及合金薄膜,TaNTiN等复合材料。

2. 单次工艺可溅射两寸片5片,四寸片和六寸片1片。

3. 不同材料溅射需要更换不同靶材,提前告知。

4. 设备2小时起约。



联系人
杨老师: 18301325784
  • Q
    是否需要回收样品
  • 样品 1
    样品名称
  • 1.1
    衬底成分
    * 请填写测试样品主要成分
  • 1.2
    样品尺寸
    * 6寸及以下长* 宽* 厚:
  • 1.3
    是否自备靶材
    * 支持靶材尺寸:直径2英寸,厚度不超过0.25英寸
  • 1.4
    溅射金属名称
    * 请填写测试样品溅射金属名称;Ti、Al、Ni、Au、Ag、Cr、Pt、Cu、TiW90、Pd、Pt、Zn、Mo、W、Ta、Ru、Si、SiC、NiCr20、Nb等均可选;
  • 1.5
    溅射金属
    * 请选择测试样品溅射金属
  • 1.6
    溅射厚度
    * 溅射薄膜厚度
  • 1.7
    衬底温度
    * 填写衬底温度
  • 1.8
    是否需要图像化溅射
  • 1.9
    样品批号
    * 批号
  • 1.10
    是否清洗
点击添加一组样品
(当您的样品测试要求或测试需求不一样,您可以再增加一组样品)
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实验方式
合计费用约
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